TEM窗格

技術背景情況

TEM薄膜窗口是利用MEMS技術制備而成,由于此種窗口選用低應力氮化硅(0-250MP)薄膜,因此比計量式薄膜更堅固耐用。甫一提供的氮化硅薄膜窗口非常適合應用于透射成像和透射能譜等廣泛的科學研究領域,例如,X-射線、TEM、SEM、IR、UV等。

客戶案例圖

TEM窗格TEM窗格TEM窗格TEM窗格

尺寸規格

3 mm x 3 mm (窗口尺寸:0.5 mm,薄膜厚度:50 nm) 3 mm x 3 mm (窗口尺寸:1.0 mm,薄膜厚度:50 nm) 3 mm x 3 mm (窗口尺寸:1.0 mm,薄膜厚度:100 nm) 邊框厚度: 200μm、381μm。?Si3N4薄膜厚度: 50nm、100nm


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